Trace-level metals and natural organic matter interactions: Oxidative/adsorptive removal pathways
- Global styles
- Apa
- Bibtex
- Chicago Fullnote
- Help
Abstract
ÖZET Doğal sularda bulunan humik asitlerin giderimi son zamanlarda önem kazanmıştır, çünkü bu maddelerin klorlama sırasında, kanserojen dezenfeksiyon yan ürünlerinin oluşumuna neden olduğu bilinmektedir. Geleneksel arıtma yöntemleri pahalı ve komplike olduğundan, titandioksit kullanılarak yürütülen heterojen fotokatalitik parçalanma prosesleri, humik asit giderimi için alternatif yöntem olarak uygulanmaktadır. Bu çalışmada, nötr pH koşullarında (pH=6.7) krom ve mangan iyonlarının, humik asidin (10 mg L`1) fotokatalitik olarak parçalanması üzerine olan etkisi incelenmiştir. Fotokatalizör olarak titandioksit ve ışık kaynağı olarak da siyah ışıklı flurasan lamba kullanılarak laboratuvar ölçekli deneyler yapılmıştır. Karşılaştırma yapabilmek için, humik asidin fotokatalitik degradasyonu ortamda metal varken ve metal yok iken incelenmiştir. Humik asidin degradasyonu Langmuir-Hinshehvood ve birinci dereceden reaksiyon kinetiği ile Renköö, Renk^, UV280 ve UV254 parametreleri cinsinden incelenmiştir. Ortamda krom ve mangan iyonlarının bulunması humik asidin fotokatalitik degradasyon hızının azalmasına sebep olmuştur. Metal iyonları bulunmazken, Renk^ ve UV254 için birinci derece hız sabitleri sırasıyla 3.86xl0`2 min`1 and 2.73xl0`2 min'1 olarak bulunmuştur. Ortama 0.10 mg L`1 krom iyonu eklendiğinde Renk^ giderim hız sabiti 3.13xl0`2 min`1 ve 0.05 mg L`1 mangan eklendiğinde ise 3. 3 7x1 0`2 min`1 olarak hesaplanmıştır. Diğer taraftan UV254 gideriminde de Renk^'da gözlendiği gibi azalma görülmektedir. En düşük değerdeki hız sabiti ortamda krom varken UV254 için 2.06x1 0'2 min`1 olarak hesaplanmıştır, diğer taraftan ortamda mangan varken bu değer 2.3 1x1 0`2 min`1 bulunmuştur. Fotokatalitik oksidasyon gideriminde gözlenen bu düşüşler, humik asit ile metal iyonları arasında oluşan ve titandioksit yüzeyindeki reaktif merkezlerin örtülmesine sebep olan zayıf bir kompleks oluşumuyla açıklanabilir. Adsorpsiyonun fotokatalitik degradasyon hızına olan etkisini anlayabilmek için tamamlayıcı adsorpsiyon deneyleri de yapılmıştır. Elde edilen sonuçlara göre adsorpsiyon kapasite değerlerinde (KF) çok önemli farklılıklar gözlenmemiştir, fakat diğer ikisiyle kıyaslandığında humik asit + mangan sisteminin en yüksek KF değerini gösterdiği saptanmıştır. IV ABSTRACT The destructive removal of humic acids in natural waters has gained increased attention, because these substances are known to be major precursors of carcinogenic disinfection by products which are produced during chlorination. Since the conventional treatment methods are expensive and complicated, heterogeneous photocatalytic degradation processes using TİO2 have been applied as an alternative treatment for the destruction of humic acid. This study was conducted to investigate the effects of chromium and manganese ions on the photocatalytic degradation of humic acid (10 mg L`1) in aqueous medium at neutral pH conditions (pH=6.7). Bench scale experiments were carried out using titanium dioxide (0.25 mg mL`1) as the photocatalyst and Black Light Fluorescent Lamp as the irradiation source. For comparison purposes, the photocatalytic degradation of humic acid was performed both in the presence and absence of metal ions. The degradation was followed by pseudo first order and Langmuir-Hinshelwood kinetics in terms of Color436, Color^o, UV280 and UV254. The presence of chromium and manganese ions resulted in decreased removal rates on the photocatalytic degradation of humic acid compared to the baseline rate of humic acid alone. Pseudo first order reaction rate constants for Color436 and UV254 were found to be 3.86xl0`2 min`1 and 2.73xl0`2 min`1 in the absence of metal ions. Color436 removal rate constant decreased to 3.13xl0`2 min`1 in the presence of 0.10 mg L`1 chromium ion and in the presence of 0.05 mg L`1 manganese ion, a value of 3.37xl0`2 min`1 was attained. On the other hand, a similar trend was observed for UV254, the removal rate constant in the presence of chromium was calculated to be the lowest with a value of 2.06xl0`2 min`1 whereas, in the presence of manganese it was found to be 2.31xl0`2 min`1. The decrease in the photocatalytic oxidation rate might be explained by the formation of a weak complex between humic acid and the metal ion which might have blocked the active sites on the TİO2 surface. Complimentary adsorption experiments were also performed to evaluate the effect of adsorption intensity on the photocatalytic degradation rates. The results indicated that no significant difference was observed with the adsorption capacity (KF) values, but compared to the other two, the humic acid + manganese system exhibited the highest values.
Collections