Metal/yarı iletken yapılar için benzeşim destekli yazılım ürün geliştirme
- Global styles
- Apa
- Bibtex
- Chicago Fullnote
- Help
Abstract
Günümüzde elektrik-elektronik teknolojisi ve sanayisinde fazlasıyla kullanılmakta olan metal/yarıiletken kontakların geniş bir uygulama alanı bulunmaktadır. Bu durum, beraberinde kontak yapılarımızı oldukça önemli kılmış, aynı zamanda bir araştırma alanın da konusu yapmıştır. Gerçekleştirmiş olduğumuz benzeşim ile metal/yarıiletken kontaklara ait deneysel sonuçlarla, benzeşim programımızdaki sonuçlar karşılaştırılarak sonuçların daha hızlı ve daha güvenilir elde edinilmesi amaç edinilmiştir. Bu tez çalışmasında Microsoft Visual Studio tarafından geliştirilmiş olan, C Sharp (C#) programlama dilinden faydalanılarak, metal/yarıiletken kontak yapılar için kullanışlı bir benzeşim uygulaması gerçekleştirilmiştir. Program vasıtasıyla, farklı iş fonksiyonlarına sahip metallerle, farklı tipteki yarıiletkenlerin oluşturduğu, metal/yarıiletken kontak diyot yapılarının akım-gerilim (I-V) eğrileri, deneysel verilerle karşılaştırılarak program optimize edilmiştir. Ayrıca programımızda metal/yarıiletken kontak yapıları için seri direnç etkisi de incelenmiştir. Hazırlanan bu benzeşim programımızın çalışması defalarca incelenmiş olup, yapılan hesaplamalar birçok kez tekrar edilmiştir. Yapılan bu testler sonucunda programımızın güvenirliği sağlanmıştır. Ayrıca program verimliliği de artırılmıştır. Nowadays, there is a wide field of application metal/semiconductor contacts which is exceedingly used in the electric-electronic technology and industry. That has made our contact structure quite important, and it has made it subject of a research field at the same time. It has taken as a goal taking results faster and more reliable with the similarity that we carry out by the way of comparing experimental results of metal/semiconductor and results of our similarity programme. In this thesis study, It has been carried out a similarity application for metal/semiconductor structures through making use of programming language C sharp, which is improved by Microsoft Visual Studio. It has been optimized by comparing experimental datas with metal/semiconductor contacts diode structures of current-voltage (I-V) curved lines which created by metals having different duty functions and different types of semiconductors via programme. Moreover, series resistance also has been observed for metal/semiconductor contact structures in our programme. Our similarity programme's study has been observed several times and calculations has been repeated many times. Reliability of our programme has been provided as a result of these testings. And programme's productivity has been increased.
Collections