Yeni nesil self-etching adeziv sistemlerin mikrogerilim bağlanma dayanımları ve nanosızıntı bakımından etkinliğinin karşılaştırmalı olarak incelenmesi

Abstract

ÖZET Bu çalışmanın amacı, yeni nesil beş self-etching adeziv sistemin dentindeki Mikrogerilim Bağlanma Dayanım (MBD) değerlerini ve Nanosızıntı miktarlarını in-vitro koşullarda karşılaştırmalı olarak değerlendirmektir. 40 adet taze çekilmiş insan üçüncü büyükazı dişlerinde, yüzeyel dentin açığa çıkartılarak, 600 grit silikon karbit zımparayla yüzeyler düzgünleştirildi. Seçilen beş adeziv sistemden üçü iki-aşamalı self-etching adeziv [Clearfıl SE Bond (SE), AdheSE (AS), Tyrian SPE & One Step Plus (TY)] ve ikisi tek-aşamalı self-etching adeziv sistemler [iBond (İB), Xeno 111 (XE)] hazırlanan dentin yüzeylerine rastgele uygulandı. Adeziv sistemler dişlere uygulandıktan sonra üzerine kompozit rezin yerleştirilerek, halojen ışıkla polimerize edildi. Örnekler 24 saat 37°C suda bekletildi Dişlerden, yüzey alanı yaklaşık lmm2'lik çubuk şeklinde kesitler alındı. MBD testinde, örneklere test makinasında 0.5mm/min. hızla çekme kuvveti uygulandı. Kınlan örneklerin kopma yüzeyleri daha sonra Scanning Elektron Mikroskobunda incelendi. Dişler Nanosızıntı testi için 0.7mm kalınlığında dilimlere ayrıldı ve örneklere kum saati formu verildi Örneklerin mezial ve distalindeki kompozit- dentin birleşim yüzeyinin lmm çevresi hariç, tüm yüzeyler tırnak cilası ile kaplandı. 24 saat %50'lik Ag NO3 solüsyonunda daldırıldı. 5 dakika su ile yıkandı. Sonra 12 saat ikinci banyo solüsyonunda bırakıldı. Hibrit tabakası boyunca meydana gelen gümüş sızıntısı Stereomikroskop'ta oküler mikrometresi ile ölçüldüÇalışmamızdan elde ettiğimiz verilerin istatistiksel değerlendirmesinde Kruskal Wallis ve Mann-Whitney-U testleri kullanıldı. SE (41.37±8.26MPa) ve AS'nin (41.23±8.18MPa) MBD değerleri, diğer adeziv sistemlerle karşılaştırıldığında istatistiksel olarak fark anlamlı bulundu (p<0.05). Diğer adeziv sistemlerin MBD değerleri (yüksekten düşüğe doğru): TY (32.88±10.89MPa), XE (27.45±4.21MPa), İB (21.77±4.76MPa). TY ve XE'nin MBD değerleri iB'la karşılaştırıldığında istatistiksel olarak fark anlamlı bulundu (p<0.05). En düşük MBD değeri ise İBond 'ta bulundu. Nanosızıntı miktarı ölçümleri: SE 292±60um, AS 395±160um, XE 608±108um, TY 653±176um, İB 570±151um. En az nanosızıntı miktarı SE'de ve daha sonra da AS'de görüldü. SE ve AS'nin nanosızıntı miktarı diğer adeziv sistemlerle karşılaştırıldığında istatistiksel olarak fark anlamlı bulundu (p<0.05). Diğer adeziv sistemler (TY, XE, İB) arasında ise istatistiksel olarak fark bulunamadı (p>0.05).

SUMMARY The purpose of this study is to investigate current-generation of five self- etching adesive systems of microtensile bond strengths(uTBS) and nanoleakage to human dentin. Forty freshly extracted human molars were polished with 600-grit SiC papers exposing superficial dentin and randomly distributed into five groups: three self-etch 2-step [Clearfil SE Bond(SE), AdheSE Bond(AS), Tyrian SPE&One Step Plus(TY)] and two self-etch one-step adhesive [iBond(iB), Xenoin(XE)]. A resin composite crown was incrementally formed and light cured to approximately 4mm in height, and the specimens stored in water for 24 h at 37degrees C. Each sample was sectioned to produce a beam(adhesive area: lmm2). All specimens were subjected to microtensile bond test at a cross-head speed of 0.5mm/min. Surface of fractured specimens, both resin and dentin, were examined with a scanning electron microscope(SEM). The teeth were sectioned into slices 0.7mm thick and hourglass shaped specimens were prepared for nanoleakage test. The slices were coated with fingernail vanish except for approximately 0.5mm around the bonded interface and immersed for 24 h 50% Ag NÛ3, rinsed under running water for 5min, then exposed in a photo developing solution for 12 h. Nanoleakage was measuered through hibrit layer under a stereo microscope. Statistical analysis of the data were analyzed with the Mann- Whitney U and Kruskal Wallis for the uTBS and nanoleakage. 86SE and AS statistically exhibited significant higher bond strenght values (41.37±8.26MPa and 4l.23±8.18MPa ) than all other materials (P<0.05). The bond strenght of other materials were (from higher to lower): TY (32.88±10.89MPa); XE (27.45±4.21MPa); İB (21.77±4.76MPa). TY and XE were significantly greater than İB (p<0.05). Statistically, TY and XE were not significantly different each other (p>0.05). The minimal uTBS value was found in iBond. Nanoleakage was measured to be: SE 292±60um, AS 395±160jim, XE 608±108um, TY 653±176um, iB 570±151um. The least nanoleakage was examined in SE and later was examined in AS. There was statistically significant less leakage in SE and AS compared with all other materials (P<0.05). There was statistically no significant difference among three adesive systems [TY, XE, iB (P>0.05)]. 87