Elektrokimyasal depolama metoduyla elde edilen Co-Cu alaşım filmlerinde sıcaklığa bağlı boyuna magnetorezistans ve özdirenç

Abstract

Co-Cu alaşım filmleri elektrokimyasal depolama metodu ile üretildi. Film kompozisyonu atomik absorbsiyon spektrometresi kullanılarak analiz edildi. Filmlerin kristal yapısı X-ışını difraksiyonu ile belirlendi, özdirenç ve magnetorezistans ölçümleri dört nokta prob metodu kullanılarak alındı. Bazı filimlerde 300 K civarında özdirençte keskin artışlar gözlendi. Magnetorezistans oranı filmdeki kobalt konsantrasyonuna bağlı olarak %0,5 ile %1,85 oranında gözlendi.

Co-Cu alloy films have been produced by electrochemical method. The composition of the films have been analysed by atomic absorbtion spectrophotometer. Crystal structure of films has been determined by X-ray difraction. Resistivity and magnetoresistance measurements have been taken by using four point probe method. A sharp increase in resistivity above 300 K has been observed for some films. Magnetoresistance ratio is detected as ranging from 0,5 % to 1,85 % depending on cobalt consantration in films.