Show simple item record

dc.contributor.advisorGülnahar, Murat
dc.contributor.authorGültepe, Orkun
dc.date.accessioned2021-05-07T11:10:17Z
dc.date.available2021-05-07T11:10:17Z
dc.date.submitted2012
dc.date.issued2018-08-06
dc.identifier.urihttps://acikbilim.yok.gov.tr/handle/20.500.12812/614740
dc.description.abstractSchottky diyotların akım-gerilim karakteristiklerinin anlaşılması oldukça ilgi çekicidir. Bu yapıların oda sıcaklığında ölçülmüş akım-gerilim karakteristiklerinin analizi ara yüzeyde engel oluşumunun doğası hakkında ayrıntılı bilgi vermektedir. Ayrıca akım-gerilim karakteristiklerinin sıcaklığa bağımlılığı, iletkenlik mekanizmasının farklı bir açıdan anlaşılmasını sağlamaktadır.Bu çalışmada Al/p-Si Schottky diyotların elektriksel karakteristikleri 150-300 K sıcaklık aralığında ölçüldü. Akım-gerilim analizlerinin sonucunda düşük sıcaklıklarda görünür engel yüksekliğinde anormal bir azalma ve idealite faktöründe de bir artış olduğu ortaya çıktı. Bu anormallikler metal-yarıiletken ara yüzeyinde ortaya çıkan engel yüksekliklerindeki homojensizlikden kaynaklandığı tespit edildi. Sonuçta Al/p-Si Schottky engel diyottaki homojensizlikler Gauss dağılımı ile başarılı bir şekilde karakterize edilebildi.
dc.description.abstractSchottky of diodes, a full understanding of the nature of their current-voltage characteristics is of great interests. Analysis of the current-voltage characteristics of these structures measured only at room temperature has given detailed information about the conduction process and the nature of barrier formation at the metal-semiconductor interface. Moreover, the temperature dependence of the current-voltage characteristics allows us to understand from different aspects of conduction mechanisms.İn this work, the electrical characteristics of Al/p-Si Schottky diodes have been measured in the temperature range of 150-300 K. Of The current-voltage analysises has emerged an abnormal decrease of apparent barrier height and increase of ideality factor at low temperature. It is determined that these anormalies result due to the barrier height inhomogeneities prevailing at the metal-semiconductor interface. As a result, homogeneties in Al/p-Si Schottky barrier diode can be successfully characterized by a Gaussian distribution.en_US
dc.languageTurkish
dc.language.isotr
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccess
dc.rightsAttribution 4.0 United Statestr_TR
dc.rights.urihttps://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
dc.subjectFizik ve Fizik Mühendisliğitr_TR
dc.subjectPhysics and Physics Engineeringen_US
dc.titleAl/p-Si Schottky kontak yapıların sıcaklığa bağlı akım gerilim (I-V) karakteristiklerinin incelenmesi
dc.title.alternativeInvestigation temperature dependence of the current-voltage (I-V) of Al/p-Si Schottky contact
dc.typemasterThesis
dc.date.updated2018-08-06
dc.contributor.departmentFizik Ana Bilim Dalı
dc.subject.ytmSchottky diodes
dc.subject.ytmGaussian distribution
dc.subject.ytmMetal-semiconductor systems
dc.identifier.yokid449554
dc.publisher.instituteFen Bilimleri Enstitüsü
dc.publisher.universityERZİNCAN ÜNİVERSİTESİ
dc.identifier.thesisid293127
dc.description.pages68
dc.publisher.disciplineKatıhal Fiziği Bilim Dalı


Files in this item

Thumbnail

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record

info:eu-repo/semantics/openAccess
Except where otherwise noted, this item's license is described as info:eu-repo/semantics/openAccess