Film örnekleri üzerinde zamanla kendiliğinden oluşan yüzey katmanlarının elipsometrik yöntemle incelenmesi

Abstract

ÖZET Bu çalışmada, vakumda ısısal buharlaştırma tekniği ile kuvars taşıyıcılar üzerine In, cam taşıyıcılar üzerine Ag-Cu ve yine cam üzerine CuInSe2 filmler kaplandı. Cu filmler yaklaşık 2000 Â, CuInSe2 filmler 0,35-1 mikron kalınlığındadır. Ag ve in filmlerinin kalınlıkları ise sırasıyla 15-800 Â, 36-2000 Â aralığında değerlere sahiptir. Bu örnekler vakumdan çıkarıldıktan hemen sonra ve olağan laboratuvar ortamında tutulurken belirli periyotlarla elipsometrik ölçümler yapıldı. Tam elipsometri eşitlikleri ve kompütür programı uygulanarak alt katmanın ve filmler üzerinde zamanla kendiliğinden oluşan doğal oksit ince filmlerinin optik özellikleri belirlendi. Ag filmler üzerinde oluşan Ag2S, in ve CuInS^ filmler üzerinde oluşan In2Og filmlerinin büyüme hızları için ampirik bağıntılar türetildi.

SUMMARY In this study, In films onto quartz substrates, Ag-Cu films onto glass substrates and CuInSe2 films also onto glass substrates were covered by the method of thermal evapo ration in vacuum. The thickness of Cu films are approximately 2000 Â and the thickness of QjInSe2 films are 035-1 micron. The tfiickness of Ag and In films are between 15-800 Â and 36-2000 Â respectively. Soon after the samples are taken out from the va cuum and while they are waited in the environment of ordinary laboratory, the ellipso- metric measurements were made periodically. By applying the exact equations of ellipso- metry and computer program, the optical properties of underlying layer and the natural oxide thin films grown up naturally on the films were determined. The empirical relati onships were derived for the growth-rates of Ag2S grown up on Ag films, and also I112O3 grown up on In and CuInSe2 films.