Metal-organik kimyasal buharlaştırma yöntemi ile kristal büyütme (MOCVD) sisteminin incelenmesi

Abstract

Bu çalışmada, üniversitemiz bünyesinde Fizik bölümü öncülüğünde kurulanMOCVD sistemi detaylıca incelendi. MOCVD, nanoyapıların yapımında kullanılanönemli bir tek kristal büyütme ?Epitaxial Growth? sistemidir. Ülkemizde N-tabanlıikinci As/P tabanlı ilk sistem olan bu sistemin kapasitesi ve diğer sistemler ilekarşılaştırılması oldukça önemli bir çalışma konusu olup, bu konuda çalışacak gençaraştırmacılar için çok önemli bir kaynak olacaktır. Kristal büyütme sisteminin genelprensipleri araştırıldıktan sonar, özellikle III-V grubu heteroyapı yarıiletkenmalzemeler ile yapılan bazı nano-aygıtlar incelenerek, yapımı muhtemel yapılarınanalizi yapılacaktır.

In this work a detailed investigation of the MOCVD epitaxial single crystal growthsystem is aimed. It is well know that MOCVD systems are very important for nanostructures growth, and Physics department of Cumhuriyet University has pioneeredinstalling an MOCVD system. This particular system will be the second in Turkey(first if As/P growth is considered). The study of this system and the comparison of itwith the other systems are important for especially young researchers who are willingto study in this area. After a general investigation of crystal growth system, we willinvestigate some nano-devices that are based on III-V?s and discuss the future roadmap.