Epitaksiyel tek kristal ince filmlerin XRD yöntemi ile incelenmesi

Abstract

Bu çalışma kapsamında epitaksiyel tek kristal ince filmlerin yapı analizlerinin x-ışını kırınım yöntemi (XRD) kullanılarak incelenmesi konu edilmektedir. X-ışını kırınımına ait teorik hesaplama teknikleri özetlenerek kinematik ve dinamik x-ışını kırınımına ait denklemler çıkarılmış ve simülasyon programlarının çalışma prensipleri açıklanmıştır Ayrıca bu çalışmada sistem ile yapılabilecek taramalar detaylıca anlatılarak açıklanmış ve yapılan taramalar ile hangi fiziksel niceliklerin ölçülebileceği anlatılmıştır. Çalışmanın son kısmında ise bazı örnekler kullanılarak yapılan taramalardan elde edilen grafikler çizilmiş ve fit edilerek yorumlanmıştır. Böylece elde edilen sonuç ile büyütülmesi hedeflenen yapı ile büyütülen yapı arasındaki fark ortaya konarak ince filmin yapısal karakterizasyonu tamamlanmıştır.Bu çalışma sırasında Sivas Cumhuriyet Üniversitesi Nanoteknoloji laboratuarında bulunan SMARTLAB sistemi kullanılmıştır.

In this study, the XRD (X-ray Diffraction) studies of epitaxial single crystal thin films have been investigated. We have summarized the theoretical calculations known as Kinematical and dynamical x-ray scattering calculations. Furthermore, what type of XRD scans can be performed and what physical quantities could be drawn from these scans are given in detail. Last part of the study contains actual xrd data from some samples and theoretical calculation fits have been found and their results are discussed.This work has been done by using The SMARTLAB system in Sivas Cumhuriyet University Nanotechnology laboratory.