SiO2 tabanlı Ni81Fe19 nanometrik manyetik ince filmin ısı kapasitesinin incelenmesi

Abstract

Öz ısı malzemelerin termal karakterizasyonu için vazgeçilmez bir özelliktir. Bu çalışmada 2,5 nm ve 5,0 nm Ni81Fe19 ile kaplanmış SiO2 tabanlı ince film numunelerin bazı termal özellikleri incelendi. Numunelerin DSC (Diferansiyel Taramalı Kalorimetre) analizleri 300-800 K arasında çalışıldı. Öz Isılarının belirli ısıtma hızları için sıcaklıkla ve numune kalınlığı ile değişimi, Sürekli Referanslı Cp Ölçüm Yöntemi ile analiz edildi. Referans numune olarak safir kullanıldı. Numunelerin yapıları EDAX ve SEM analizleri ile incelendi. Ayrıca öz ısıların ısıtma hızı ile değişimi de incelendi.

Specific heat is an indispensable property for thermal characterization of materials. In this study, some thermal properties of SiO2 based 2,5 nm and 5,0 nm Ni81Fe19 monolayer thin films were investigated. Differential Scanning Calorimeter (DSC) analysis of the samples were studied between 300-800 K. Temperature and thickness dependencies of specific heat of the samples for some heating rates were analyzed with Continuous Cp With Reference Method. Sapphire is used as the reference sample. The structures of samples have been investigated by SEM and EDAX analysis. The change of specific heat by heat rate is also investigated.