Show simple item record

dc.contributor.advisorÖksüzoğlu, Ramis Mustafa
dc.contributor.authorYağci, Ahmet Murat
dc.date.accessioned2021-05-06T12:42:29Z
dc.date.available2021-05-06T12:42:29Z
dc.date.submitted2016
dc.date.issued2018-08-06
dc.identifier.urihttps://acikbilim.yok.gov.tr/handle/20.500.12812/589142
dc.description.abstractVanadyum Oksit (VOx), sıcaklıkla yarı iletken fazdan iletken faza geçiş göstermektedir ve mikroelektromekanik (MEMS) aygıtlarda kullanılmaktadır. Yüksek TCR (direncin sıcaklık sabiti) değeri, düşük elektriksel gürültüsü ve düşük elektriksel direnç (R) değerlerine sahip olması nedeniyle Vanadyum Oksit bu alanda ön plana çıkmaktadır. Endüstriyel uygulamalardaki Vanadyum Oksit ince filmlerle yapılan çalışmalarda filmlerin elektriksel gürültüsü minimize edilmek istenmektedir. Bu yüksek lisans tezi kapsamında, endüstriyel uygulamalar için istenilen elektriksel direnç ve TCR değerine sahip Vanadyum Oksit ince filmleri elde etmek amacıyla üretim parametrelerinin etkisi incelenmiş, uygun elektriksel direnç ve TCR değerleri için üretim parametreleri optimize edilmiştir ve üretilen filmlerin yapısal özellikleri X-Işını Yansıması ve Kırınımı teknikleri ile incelenmiştir. En uygun elektriksel direnç ve TCR değeri elde edilen üretim parametreleri ile filmler parmak yapıda şekillendirilen elektrotlar üzerine kaplanarak, elektriksel ve 1/f elektronik gürültü özellikleri incelenmiştir.
dc.description.abstractVanadium oxide shows semiconductor to metal transition with temperature; thus it is used in microelectromechanical devices. Vanadium oxides are getting attention with their high temperature coefficient of resistance (TCR), low electrical noise and lower resistivity. For industrial applications, lower noise values are prefable, thus investigations on Vanadium Oxide based systems are still being investigated intensively. In the present study, the deposition parameters of the VOx thin films have desired properties for industrial applications will be determinded. Structural properties studied by X-Ray diffraction and reflection techniques. Then, the VOx thin films will deposited onto the finger type electrodes, and influence of structural properties and their relationship with electrical properties will be investigated. Electrical properties will be carried out by analyzing the TCR, electrical resistance and electrical noise values of the VOx thin films.en_US
dc.languageTurkish
dc.language.isotr
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccess
dc.rightsAttribution 4.0 United Statestr_TR
dc.rights.urihttps://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
dc.subjectBilim ve Teknolojitr_TR
dc.subjectScience and Technologyen_US
dc.subjectElektrik ve Elektronik Mühendisliğitr_TR
dc.subjectElectrical and Electronics Engineeringen_US
dc.subjectMühendislik Bilimleritr_TR
dc.subjectEngineering Sciencesen_US
dc.titleNano ölçekli Vanadyum Oksit ince filmlerde elektriksel özelliklerinin ve 1/f gürültüsünün karakterizasyonu
dc.title.alternativeElectrical and 1/f noise caharacterization of nano scale Vanadium Oxide thin films
dc.typemasterThesis
dc.date.updated2018-08-06
dc.contributor.departmentİleri Teknolojiler Ana Bilim Dalı
dc.subject.ytmSemiconductor thin films
dc.subject.ytmNano structure
dc.identifier.yokid10101068
dc.publisher.instituteFen Bilimleri Enstitüsü
dc.publisher.universityANADOLU ÜNİVERSİTESİ
dc.identifier.thesisid425742
dc.description.pages146
dc.publisher.disciplineDiğer


Files in this item

Thumbnail

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record

info:eu-repo/semantics/openAccess
Except where otherwise noted, this item's license is described as info:eu-repo/semantics/openAccess