Sinterleme metodu ile elde edilen kimyasal özellikleri benzer bazı 3D ve 4D geçiş metal alaşımlarının dış manyetik alanda k tabakası X-ışını şiddet oranı ve valens elektron yoğunluğunun belirlenmesi

Abstract

Bu doktora tez çalışmasının ilk aşamasında (CrxCu1-x, CrxAg1-x, MoxCu1-x, MoxAg1-x, x=0,3; 0,4; 0,5; 0,6; 0,7) mikro alaşımların çeşitli kompozisyonları, sıkıştırma basıncı 939,467 MPa ve tavlama sıcaklığı 1000°C kullanılarak sinterleme tekniği ile üretimi yapıldı. İkinci aşamada, Cr, Cu, Mo, Ag saf mikro metallerin ve üretilen alaşımların, Enerji Ayırımlı X-ışını Floresans (EDXRF) tekniği ile manyetik alan sisteminin kurulduğu deney geometrisinde bir Si(Li) yarıiletken katı hal dedektörü kullanılarak Kα ve Kβ emisyon spektrumları ölçüldü. Elde edilen emisyon spektrumlarının sonuçları ile tüm durumlar için incelenen numunelerin IKβ/IKα X-ışını şiddet oranları hesaplandı. Üçüncü aşamada, Multi-Configuration Dirac-Fock (MCDF) hesaplamaları ve sonuçları kullanılarak hesaplanan X-ışını şiddet oranları vasıtasıyla alaşımların valens elektron yapılarını belirlemek için bir program geliştirildi. Tüm durumlar için bu program kullanılarak Cr, Cu saf mikro metallerin ve üretilen alaşımların valens elektron yapıları hesaplandı. Valens elektron yapısındaki değişimler delokalizasyon ve/veya yük transfer fenomenleri açısından değerlendirildi. Alaşımların X-ışını şiddet oranları ve valens elektron yapıları üzerine manyetik alan etkisi için; hazırlanan deney geometrisinde numuneler 0, 4000, 8000 Gauss değerinde dış manyetik alan altında ölçülmüş ve elde edilen sonuçlar değerlendirilerek bu fiziksel parametrelerin ve alaşım konsantrasyonlarının ayrı ayrı önemli ölçüde etkilerinin olduğu saptanmıştır.

In the first stage of this PhD thesis, the various compositions of (CrxCu1-x, CrxAg1-x, MoxCu1-x, MoxAg1-x, x=0,3; 0,4; 0,5; 0,6; 0,7) has been produced by sintering technique at compression pressures 939,467 MPa and 1000°C annealing temperature. In the second stage, Kα and Kβ emission spectra of Cr, Cu, Mo, Ag pure mikro metals and produced alloys were measured in the experiment geometry which magnetic field system established by energy dispersive X-ray fluorescence (EDXRF) technique using a Si(Li) semiconductor solid-state detector in the same experiment conditions. The IKβ/IKα X-ray intensity ratios of investigated samples were calculated for all conditions using the results obtained of emission spectra. In the third stage, a program was developed in order to determine valence electron structures of alloys via X-ray intensity ratios by using Multi-Configuration Dirac-Fock (MCDF) calculations and results. For all states, valence electron structures of Cr, Cu pure mikro metals and alloys were calculated by using this program. Changes in valence electron structures were evaluated in terms of delocalization and/or charge transfer phenomena. For magnetic field effect on X-ray intensity ratios and valence electron structures of alloys; in the experiment geometry, the samples are measured under 0, 4000, 8000 Gauss values of external magnetic field and the results obtained are evaluated. It was determined that these physical parameters and alloy concentrations have significant effect separately.