Show simple item record

dc.contributor.advisorBektöre, Yüksel
dc.contributor.advisorAlanyalı, Hasan
dc.contributor.authorKaya, Ahmet Uğur
dc.date.accessioned2020-12-29T13:14:27Z
dc.date.available2020-12-29T13:14:27Z
dc.date.submitted1998
dc.date.issued2020-12-22
dc.identifier.urihttps://acikbilim.yok.gov.tr/handle/20.500.12812/421839
dc.description.abstractPVD KAPLAMA TEKNİĞİYLE ELDE EDİLEN TİN İNCE FİLMLERDE TEMEL KARAKTERİSTİKLERİN İNCELENMESİ A. Uğur KAYA Anahtar Kelimeler: PVD, Bias Voltajı, Sertlik (Fischerscope), Ultrasonik Test, SEM Özet: Bu çalışmada, PVD (Physical Vapour Deposition) tekniğinin farklı bias voltajlarında soğuk iş takımı çelik numuneler üzerine kaplanan TİN filmlerin sertlik ve kalıcı gerilmeleri incelenmiştir. Kaplama işleminde bias voltajları, 100, 150, 200, 250, 300V olarak değiştirilmiştir. Katot akımı, kaplama sıcaklığı,basıncı ve süresi gibi diğer parametreler,sabit tutulmuştur. Kaplanan numunelerin sertlik ölçümleri, Fischerscope sertlik ölçüm sisteminde gerçekleştirilmiştir. Ultrasonik test sistemiyle numunelerde uzunlamasına dalga geçiş hızları belirlenerek kalıcı gerilmeler yorumlanmıştır. JEOL JSM 840A taramalı elektron mikroskobunda numunelerin ara yüzey görüntüleri alınmış ve film kalınlıkları belirlenmiştir. Artan bias voltajıyla film kalınlıklarının azaldığı gözlenmiştir.
dc.description.abstractINVESTIGATION OF BASIC CHARACTERISTICS ON TiN THIN FILMS OBTAINING FROM PVD COATING TECHNIQUE A. Uğur KAYA Keywords: PVD, Bias Voltage, Hardness (Fischerscope), Ultrasonic Test, SEM Abstract: In this study, hardness and residual stresses of TiN films coated onto tool steels by variuos bias voltages using PVD technique were investigated. In coating process, bias voltages were changed 100, 150, 200, 250, 300V respectively. Other parameters such as coating temperature, duration, pressure and cathode current were fixed. Hardness measurements of coated films were measured by Fischerscope hardness test. Measuring the longitudinal wave transition velocities on substrates by ultrasonic test residul stresses were interpreted. İnterfacial micrographs of substrates were obtained from JEOL JSM 840A Scanning Electron Microscope. Reducing film thickness were observed by increased bias voltages. 11en_US
dc.languageTurkish
dc.language.isotr
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/embargoedAccess
dc.rightsAttribution 4.0 United Statestr_TR
dc.rights.urihttps://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
dc.subjectFizik ve Fizik Mühendisliğitr_TR
dc.subjectPhysics and Physics Engineeringen_US
dc.titlePVD kaplama tekniği ile hazırlanan TiN ince filmlerin temel karakteristiklerinin incelenmesi
dc.title.alternativeInvestigation of basic characteristics on TiN thin films obtaining from PVD coating technique
dc.typemasterThesis
dc.date.updated2020-12-22
dc.contributor.departmentFizik Anabilim Dalı
dc.subject.ytmThin films
dc.subject.ytmPhysical vapour deposition
dc.subject.ytmSteel-metal
dc.subject.ytmHardness
dc.subject.ytmCoating
dc.identifier.yokid78248
dc.publisher.instituteFen Bilimleri Enstitüsü
dc.publisher.universityKOCAELİ ÜNİVERSİTESİ
dc.identifier.thesisid78248
dc.description.pages81
dc.publisher.disciplineDiğer


Files in this item

Thumbnail

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record

info:eu-repo/semantics/embargoedAccess
Except where otherwise noted, this item's license is described as info:eu-repo/semantics/embargoedAccess