On the strain in silicon nanocrystals

Abstract

Bu Tez'de camsı silisyum dioksidin (a-SiO$_2$) içine gömülü silisyum nano örgülerin (Si-NÖ) atomik mekanizmalarının ve nano örgü (NÖ) oksit arayüzünün kimyasal özelliklerinin anlaşılmasına yönelik çalışmalarımızı sunuyoruz. Silisyum nano örgülerinin yapılarını belirleyebilmek çözülmeyi bekleyen önemli bir teknolojik problemdir. Bu amaçla, başlangıç olarak silisyum nano örgülerin oksit içinde tavlama sırasında oluşumunu modelledik. Ardından Si-NÖ/a-SiO$_2$ arayüzünün kimyasını anlamak için, benzetim sırasında kimyasal reaksiyonları da modelleyebilen bir potansiyel kullanarak moleküler dinamik (MD) benzetimleri yaptık. Sonuçlarımız Si-NÖ/a-SiO$_2$ arayüzünün sanıldığı gibi çift bağ ya da köprü bağ yapan oksijenlerden oluşmadığını bunun yanında, NÖ yüzeyinde üç bağlı oksijen komplekslerin varlığını da gösterdi.Gerilme nano yapıların optik ve elektronik özellikleri üzerinde önemli bir etkiye sahiptir. a-SiO$_2$ içine gömülü Si-NÖ'lerdeki gerilme dağılımını atomistik düzeyde hesapladık. Çapları 3.2 nm'yi bulan NÖ'lerde yaptığımız hesaplarda şaşırtıcı sonuçlar elde ettik. NÖ çekirdeğinde düzenli bir sıkışmayı hem bağ uzunluklarında hem de gerilme dağılımında gözlemlememize karşın, NÖ yüzeyinin hemen altındaki Si-Si bağları oksit atomlarının etkisi ile uzarken aynı bölgenin /textit{sıkışma} şeklinde deforme olduğunu gözlemledik. Başta çelişkili gibi görünen bu iki sonuç, Si-NÖ'nün içine gömüldüğü a-SiO$_2$'in NÖ'yü düzensiz deforme ettiği gerçeği ile anlam kazanmaktadır. Bu düzensiz deformasyon sayesinde NÖ yüzeyinin hemen altında Si-Si bağları uzarken aynı bölgedeki gerilme dağılımı negatif karakterlidir.Titreşimsel durum yoğunluğu (TDY) Si-NÖ'lerin optik özelliklerini etkiler. Çalışmamızda TDY, hız korelasyon fonksiyonu (HKF) hesaplanması yoluyla elde edildi. HKF ise MD benzetimi sonucunda elde edilen atomların hız bilgileri kullanılarak hesaplandı. Bunun yanında MD benzetimi sonucu elde ettiğimiz her atomun hangi atomlarla bağ yaptığı hakkındaki bilgi sistemdeki atomları sınıflandırmamıza olanak verdi. Bu sınıflandırmayı kullanarak geliştirdiğimiz 'Renkli-HKF' yöntemi ile sistemdeki farklı özelliklerdeki atomların TDY'na katkılarını ayrı ayrı değerlendirdik. Bu sayede Si-NÖ çekirdeğindeki silisyum atomları ile Si-NÖ yüzeyindeki silisyum atomlarının TDY'na yaptığı farklı katkıları birbirinden ayırt edebildik. Böylelikle gerilmenin ve Si-NÖ/a-SiO$_2$ arayüzü kimyasının TDY üzerindeki etkisini inceledik.

In this Thesis we present our achievements towards an understanding of atomistic strain mechanisms and interface chemistry in siliconnanocrystals.The structural control of silicon nanocrystals embedded in amorphous oxide is currently an importanttechnological problem. First, our initial attempt is described to simulate the structural behaviorof silicon nanocrystals embedded in amorphous oxide matrix based on simple valence force fieldsas described by Keating-type potentials. Next, the interface chemistry of silicon nanocrystals (NCs) embeddedin amorphous oxide matrix is studied through molecular dynamics simulations with the chemical environment being governed by the reactive force field model. Our results indicate that the Si NC-oxide interface is more involved than the previously proposed schemes which were based on solely simple bridge or double bonds. We identify different types of three-coordinated oxygen complexes, previously not noted. The abundance and the charge distribution of each oxygen complex is determined as a function of the NC size as well as the transitions among them.Strain has a crucial effect on the optical and electronic properties of nanostructures. We calculatethe atomistic strain distribution in silicon NCs up to a diameter of 3.2 nm embedded inan amorphous silicon dioxide matrix. A seemingly conflicting picture arises when the strain fieldis expressed in terms of bond lengths versus volumetric strain. The strain profile in either caseshows uniform behavior in the core, however it becomes nonuniform within 2-3 /AA~distance tothe NC surface: tensile for bond lengths whereas compressive for volumetric strain. Wereconcile their coexistence by an atomistic strain analysis.Vibrational density of states (VDOS) affects the optical properties of Si-NCs. VDOS obtained by calculating velocity autocorrelation function (VACF) using velocities of the atoms is extracted from the molecular dynamics simulations. The information on bonding topology enables classification of atoms in the system with respect to their neighbor atoms. With help of this information we separate contributions of different type of atoms to the VDOS. Calculating VACF of different type of atoms such as surface atoms and core atoms of nanocrystal, to the system facilitates understanding of the effects of strain fields and interface chemistry to the VDOS.