Show simple item record

dc.contributor.advisorŞahingöz, Recep
dc.contributor.authorKaya, Ahmet
dc.date.accessioned2020-12-10T10:30:10Z
dc.date.available2020-12-10T10:30:10Z
dc.date.submitted2019
dc.date.issued2019-11-28
dc.identifier.urihttps://acikbilim.yok.gov.tr/handle/20.500.12812/247469
dc.description.abstractBu çalışmada 9 nm kalınlığındaki tek katmanlı Ni81Fe19 film, Silisyum (Si) alttaş üzerine sıçratma ile biriktirme tekniği ile elde edilmiştir. İlk olarak bu numuneye 300 K sabit sıcaklıkta ±1,4KG aralığında değişen dış manyetik alan uygulanmıştır. Direnci (3,90x10-5 den – 3,83x10-5 Ω cm' e) azalma, taşıyıcı yoğunluğu (1,29x1021 den – 3,03x1021 cm-3 'e) artış ve Hall mobilitesinde (1,24x102 'den - 5.29x101 cm2V-1s-1 'e) azalma gözlemlenmiştir. İkinci olarak numuneye 7,5 KG sabit dış manyetik alanda 20-300 K arasındaki sıcaklıklar uygulandığında dirençte (2,54x10-5 'den – 3.84x10-5 'e Ω cm) artış, taşıyıcı yoğunluğunda (2,99x1021 'den - 1.68x1021 cm-3 'e ) azalma, Hall mobilitesinde (7,98x10 'den – 9,53x10cm2V-1s-1 'e) artma gözlemlenmiştir. Aynı numunenin manyetik alan olmadan direnç değerinin (2,63x10-5 'den – 3,91x10-5 Ω cm 'e) daha yüksek olduğu gözlemlenmiştir. Son olarak 25-350 K sıcaklık aralığında ve her sıcaklık değeri için ± 1,4 KG değişen manyetik alanlarda direnç değişimi izlenmiştir. Manyetik alana bağlı olarak sıcaklığın artması ile direncin azaldığı gözlemlenmiştir.Anahtar Kelimeler: Manyetorezistans, Taşıyıcı yoğunluğu, Mobilite, İnce film, Hall Etki.
dc.description.abstractIn this study, monolayer film of Ni81Fe19 which is 9 nm thickness has been grown on Si wafer with sputtering deposition technique. Firstly, the ±1.4 KG variable external magnetic field was applied to this sample at a constant temperature of 300 K. Decrease in resistance (3,90x10-5 - 3.83x10-5 Ω cm), increase in carrier density (1,29x1021 – 3,03x1021cm-3) and decrease in Hall mobility (1,24x102 - 5,29x101 cm2V-1s-1) were observed. Secondly, the 7,5 KG constant external magnetic field was applied between 20-300 K temperature, and following changes were observed; increase in the resistance (2,54x10-5 – 3,84x10-5 Ω cm), decrease in carrier density (2,99x1021 – 1,68x1021cm-3 ) and an increase in the Hall mobility (7,98x10 – 9,53x10cm2V-1s-1 ). It was observed that the same sample had higher resistance value (2,63x10-5 – 3,91x10-5 Ω cm) without a magnetic field. Finally, change in resistance was observed in the ±1,4 KG magnetic field range between 25-350 K temperature value. It was observed that the resistance decreased as the temperature increased due to the magnetic field.Keywords: Magnetoresistance, Carrier density, Mobility, Tiny Film, Hall Effect.en_US
dc.languageTurkish
dc.language.isotr
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccess
dc.rightsAttribution 4.0 United Statestr_TR
dc.rights.urihttps://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
dc.subjectMekatronik Mühendisliğitr_TR
dc.subjectMechatronics Engineeringen_US
dc.titleİnce filmlerde hall efekt tekniği ile manyetorezistans ölçümü
dc.title.alternativeMagnetoresistance measurement of thin film with hall effect technique
dc.typemasterThesis
dc.date.updated2019-11-28
dc.contributor.departmentMekatronik Mühendisliği Anabilim Dalı
dc.identifier.yokid10249293
dc.publisher.instituteFen Bilimleri Enstitüsü
dc.publisher.universityYOZGAT BOZOK ÜNİVERSİTESİ
dc.identifier.thesisid584447
dc.description.pages87
dc.publisher.disciplineDiğer


Files in this item

Thumbnail

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record

info:eu-repo/semantics/openAccess
Except where otherwise noted, this item's license is described as info:eu-repo/semantics/openAccess