Show simple item record

dc.contributor.advisorAydın, M. Enver
dc.contributor.authorUslu, Nilüfer
dc.date.accessioned2020-12-07T08:28:07Z
dc.date.available2020-12-07T08:28:07Z
dc.date.submitted2011
dc.date.issued2018-08-06
dc.identifier.urihttps://acikbilim.yok.gov.tr/handle/20.500.12812/114750
dc.description.abstractBu tez çalışmasında (100) doğrultusunda büyütülmüş, özdirenci 5-10 ?.cm arasında olan p-tipi silisyum yarıiletken kristal kullanıldı. Silisyum RCA temizlik metoduyla yıkandı. Daha sonra Silisyumun mat yüzeyine yüksek vakum altında Al buharlaştırılarak tavlama işlemi için N2 ortamında 570 ºC sıcaklıkta 3 dakika bekletilerek omik kontak yapıldı. Omik kontaklı Silisyumun parlak yüzeyine P3HT organik film çözeltisinden birkaç damla damlatıldı ve kurumaya bırakıldı. Böylelikle organik film elde edildi. Elde edilen P3HT/p-Si yapısı üzerine yeniden yüksek vakum altında Al buharlaştırılarak Al/P3HT/p-Si yapısı elde edildi.Diyodun karakteristik parametreleri, akım-gerilim (I-V) ölçümlerinden belirlendi. Işıksız ortamda Al/P3HT/p-Si diyotunun engel yüksekliği 0.78 eV idealite faktörü 2.43, ışıklı ortamda ise engel yüksekliği 0.76 eV idealite faktörü 4.07 olarak belirlendi. Bu sonuç elde ettiğimiz diyotun ışıklı ortama duyarlı olmasına atfedildiAnahtar Kelimeler: Organik film, p-tipi Silisyum, Elektriksel Özellik
dc.description.abstractIn this thesis, we have used p-type Si semiconductor crystal with (100) orientation and resistivity between 5-10 ?.cm. Si wafer has been cleaned by RCA method. Then, ohmic contacts on the unpolished surface formed by evaporation of Al under high vacuum and thermal annealing at 570 ºC temperature for 3 minutes under N2 atmosphere in the quartz tube furnace. A few drops of P3HT organic solutions have been dropped on the polished surface of Si with ohmic contact and it has been left to dry. In this way, Al/P3HT/p-Si has been obtained by evaporation of Al on P3HT/p-Si structure.Characteristic parameters of the diode have been determined using current?voltage (I-V) measurements. Barrier height and ideality factor values of Al/P3HT/p-Si diode have been determined as 0.78 eV and 2.43 in dark 0.76 eV and 4.07 under light, respectively. These results attributed photosense of the diode.Keywords: Organic film,p-type Si, electrical propertiesen_US
dc.languageTurkish
dc.language.isotr
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccess
dc.rightsAttribution 4.0 United Statestr_TR
dc.rights.urihttps://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
dc.subjectFizik ve Fizik Mühendisliğitr_TR
dc.subjectPhysics and Physics Engineeringen_US
dc.titleIşığın, P3HT poly( 3-hexylthiophene) organik filmi ile elde edilen Al/P3HT/p-Si yapısının elektriksel özelliklerine etkisi
dc.title.alternativeThe effect of light electrical properties of Al/P3HT/p-Si structure obtained with P3HT poly( 3-hexylthiophene) organic film
dc.typemasterThesis
dc.date.updated2018-08-06
dc.contributor.departmentFizik Anabilim Dalı
dc.identifier.yokid407280
dc.publisher.instituteFen Bilimleri Enstitüsü
dc.publisher.universityDİCLE ÜNİVERSİTESİ
dc.identifier.thesisid300018
dc.description.pages44
dc.publisher.disciplineDiğer


Files in this item

Thumbnail

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record

info:eu-repo/semantics/openAccess
Except where otherwise noted, this item's license is described as info:eu-repo/semantics/openAccess